光学薄膜原理

光学薄膜基本理论 (Optical Coating Theory)
    光学薄膜应用于各种反射和投射光学元件，常用的典型光学薄膜的例子有：减少光在元件表面反射的增透膜；使光在给定波长范围内透过的滤光片窗口；在反射镜中使用的高反射膜等。
   如果入射光有角度，光通过元件时将产生偏振，光学薄膜可以针对入射角度、S偏振光、P偏振光和随机偏振光进行设计。如果光学薄膜按照0度入射光进行设计，
就不能在45度表现出我们预期的光学性能。
   光学薄膜的镀制是通过在元件表面沉积介质和金属材料如SiO2,TiO2, 或铝，典型的薄膜其每一层的厚度相当于1/4所使用的波长，高折射率的材料和低折射率的材料交替沉积，产生所需要的干涉效果。

n_f 光学薄膜的折射系数n₀ 空气的折射系数
n_s 基片的折射系数
　

光学薄膜技术：
IBS：离子束溅射，由离子源产生带能量的离子，溅射到基片表面。
PVD: 物理蒸发沉积，通过电子枪作用于镀膜材料上，产生电子束，均匀沉积于镀膜元件上。

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成都奥林光学薄膜公司提供以下光学薄膜及相关产品：
　

编码	产品类别	编码	产品类别
C-OCLI001	增透膜AR Coatings	C-OCLI005	偏振膜Polarizing Coatings
C-OCLI002	分光膜Beamsplitters	C-OCLI006	滤光片Filters
C-OCLI003	高反膜Reflective Coatings	C-OCLI007	金属反射镜Metallic Mirrors
C-OCLI004	高阈值激光膜High Laser Damage Threshold	C-OCLI008	客户特殊要求薄膜

u相关名词：
石英晶体膜厚控制（Crystal Thickness Control): 石英晶体的重量的微小变化将会导致其振荡频率的变化，因此，在镀膜过程中，我们把石英具体探测头置于真空室内，通过石英晶体的频率变化来控制镀膜的厚度。
介质（Dielectric): 从紫外、可见到近红外波长都有较高的透过率（很小吸收）的材料称为介质材料。
光学监控（Optical Monitoring): 在镀膜过程中，直接测量置于真空室内的比较片的反射或透射的设备。在一些情况下，光控有比较高的测量精度。
光学薄膜（Thin Film): 任何在光线透过或反射时产生增加或减少干涉效果的薄膜。