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公司开始中小批量偏振片生产

   在首席科学家周九林先生的带领下,公司经过大量的研究和试验,在偏振光学薄膜生产方面取得了重大进展,产品特点为:工艺稳定,消光比高,P光透过率大于96%,抗激光损伤等特点,目前已经开始在国家国防工程上应用。
    具体技术参数包括:

     
  基片尺寸 <120mm
  面形精度 透射波前lambda/6
  Tp >95%
  Rs >99.5%
  损伤域值 >5J/cm2 (1ns 1mm)
     
 
  公司可以根据客户要求进行定制生产  

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