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 平面偏振光学薄膜

   
    成都奥林光学薄膜公司在平面偏振光学薄膜光学薄膜方面拥有自己的核心技术,特别是在平面偏振片方面形成了独特的工艺技术。所生产的偏振片的技术指标为:
 

偏振片技术指标

基底材料 BK 7(K9) , 石英    
面型 £l/10 at 632.8 nm (在通光口径内)
波前畸变  £l/10 at 632.8 nm (在通光口径内)
通光口径  >90% 
光洁度  10-5 scratch-dig 
平行度 £1 arc min 
使用角度  56° ± 3°, angular tuning required 
效率 Tp > 95%, Rs > 99%, 在设计波长
常用偏振片波长: 消光比  Tp/Ts > 500:1 
532nm, 808nm, 940nm ,976nm ,1053nm, 1064nm, 1550nm 尺寸 ≤200mm(根据客户要求进行设计)
->【偏振片工作原理图】 产品标准 MIL-M-13508, MIL-C-675, MIL-C-14806 
  清洁建议 酒精,丙酮或乙醚混合,镜头纸擦拭 
  激光损阈伤 5 MW/cm2 CW, 5 J/cm2 with 10 nsec pulses at 10 Hz 

                  

ICP备案编号:蜀ICP备05020611号

 

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